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Cassification
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EM602-10 Mini TEM Cell*紧凑的设计针对超出标准TEM Cell频率范围的中等精度测量进行了优化。 EM601-6的工作原理与TEM Cell相同。测试腔体内的E-H场与输入电压成比例,与小室的高度成反比。当辐射物嵌入小室内部时,辐射波经传输线引导,朝着小室的输入/输出端口移动,并通过诸如频谱分析仪的接收器在端口进行辐射信号接收。利用这种方法,可以定量测量来自辐射物的RFI。由于该设备工作频段宽,因此可应用在EMI,EMS,接收机灵敏度测试等很多领域。
特征
高达6 GHz带宽(超过普通TEM的 1 GHz带宽)
可承受高达5 kV的高压脉冲注入,进行瞬态场测试
EM602-10 Mini TEM Cell应用 :
IC的电磁抗扰度测试
IC的电磁辐射测试
IC的ESD场敏感度测试
IEC 61967-2:2005集成电路 – 150 kHz至1 GHz的电磁辐射测量 – 第2部分:辐射发射的测量 – TEM单元和宽带TEM单元法
IEC 61967-8:2011集成电路 – 150 kHz至3 GHz的电磁辐射测量 – 第8部分:辐射发射的测量 – IC带状线方法
IEC 62132-8:2012集成电路 – 电磁抗扰度测量,150 kHz至3 GHz – 第8部分:辐射抗扰度测量 – IC带状线方法
SAE 1752-3集成电路辐射发射的测量 – TEM /宽带TEM(GTEM)单元法; TEM Cell(150 kHz至1 GHz),宽带TEM单元(150 kHz至8 GHz)
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